描述
关键技术规格
| 参数项 | 参数指标 |
|---|---|
| 完整型号 | GRANVILLE-PHILLIPS 360120 |
| 测量量程 | 1×10⁻⁹ Torr ~ 2×10⁻² Torr |
| 标准测量精度 | ±15%（氮气标定条件） |
| 结构类型 | Stabil-Ion 热阴极 Bayard-Alpert 电离规 |
| 配套控制器 | GP 360 系列 Stabil-Ion 真空规控制器 |
| 校准配置 | 单支规管匹配专属校准存储模块 |
| 支持功能 | 配合控制器实现灯丝激励、腔体除气 Degas |
| 适用工艺气体 | 氮气、氩气、氦气等惰性气体（可设置气体修正系数） |
| 工作环境温度 | 0 ℃ ~ +50 ℃ |
| 安装法兰 | CF 标准超高真空法兰 |
| 信号传输 | 专用规管电缆连接控制器 |
产品深度介绍
GRANVILLE-PHILLIPS 360120 是 MKS 旗下 GP 推出的 Stabil-Ion 系列热阴极电离真空规管，专门搭配 360 系列真空控制器组成完整超高真空监测系统。 规管内置阴极灯丝，通电后发射电子电离腔体内气体分子，通过收集离子电流换算真空压力，是半导体真空腔体超高真空区间的核心传感元件。每支 360120 出厂附带独立校准存储模块，更换规管时载入校准数据，无需现场重新标定，减少停机调试时长。 相比传统玻璃电离规，这款规管抗污染能力更强，适配长期连续运行的镀膜、刻蚀真空产线；大量服役多年的进口欧美真空工艺设备原配元件，故障后优先选用同型号完成替换。
应用场景与行业案例
连续真空工艺设备一旦真空监测失效，整条产线无法进入工艺流程，停机损失较高，超高真空测点缺少可靠备件一直是真空设备维保常见难题。
典型应用场景：
- 半导体行业 — PVD 磁控溅射、CVD 薄膜沉积、干法刻蚀设备腔体超高真空监测
- 光学涂层行业 — 精密光学镀膜机、连续式真空镀膜生产线
- 科研真空平台 — 分子束外延 MBE、高能物理实验超高真空腔体
- 新材料研发 — 离子注入、真空热处理实验设备
案例：华东半导体镀膜产线紧急备件更换 去年三季度，一条进口连续镀膜设备报警超高真空读数异常，排查确认设备原配 GRANVILLE-PHILLIPS 360120 规管灯丝老化失效。原厂海外订货周期长达 8 周，产线无法长期停机等待。 企业采购现货规管，到货后同步更换规管与配套校准存储模块，接线完成后启动除气程序，真空压力读数稳定恢复，设备顺利重启量产。 后续该企业将 360120 纳入关键真空备件清单进行常备库存。
